FIZIKAI GŐZLEDEPOSITIO (PVD) - MAGNETRON SPUTTERING

A PVD (Fizikai Gőzfázisú Üledékképzés angolul, vagy fizikai gőzfázisú bevonat francia nyelven) egy olyan bevonatolási eljárás, amely lehetővé teszi, hogy vákuumban vékony anyagfilmeket helyezzenek el gőz formájában. A kezelendő alkatrészeket egy vákuumgépbe helyezik. Miután egy gázt bevezetnek, plazma keletkezik, és a pozitívan töltött ionokat egy elektromos mező gyorsítja a negatívan töltött elektródára vagy „célra”. A cél az a anyag, amelyet el kell helyezni. Az ionok elegendő erővel ütik a célt, hogy kilökjék az atomokat. Ezek az atomok kondenzálódnak a közeli felületeken, és alkotják a bevonatot. A feldolgozási sebesség növelése érdekében a célok egy mágnetronra vannak rögzítve, így javítva a folyamat hatékonyságát és ipari szintre emelve azt. Ez az alacsony hőmérsékletű eljárás lehetővé teszi bármilyen típusú anyag bevonását széles alapanyagválasztékon. Ez lehetővé teszi a különböző anyagok széles spektrumának elhelyezését.