Magas Tisztaságú 96 Alumínium Oxid Kerámia Alap - Alumínium Oxid Kerámia Alap

Az alumínium-oxid (Al2O3) 96%-os kerámia lemezek széles körben használatosak az elektronikai ipar vastagfilm áramkörében. Nagy integráltságú áramkörök, teljesítmény hibrid IC, félvezető csomag, darabfilm ellenállás, hálózat, ellenállás, fókuszáló potenciométer stb. A vásárlói igények szerint cégünk különféle típusú és specifikációjú termékeket tud gyártani. Alumina kerámia alaplap / lemez specifikáció: > 10x10x1mm, 20x20x2mm, 40x40x8mm, 100x60x8mm, 150x150x12.5mm, 200x200x25mm stb. > A kerámia lemez vastagsága 0,25 és 1,0 mm között változik. Kérésre elkészíthető. A kerámia lemez vastagsága: 0,25 és 1,0 mm között változik. Tisztaság: 92%, 95%, 96%, 99%, 99,7% Alkalmazás: vastagfilm áramkörökben használják az elektronikai iparban.