Termékek acélunk (41)

Élek csiszolása

Élek csiszolása

We can facet blanks with a diameter up to150 mm, and also rectangular wafers. Facet dimension – up to 5 mm. Edge grinding accuracy 0,1 mm.
A kristály négyzetre emelése

A kristály négyzetre emelése

A squaring machine with two blades for outside cutting is used for this operation. Capacity – 2000 kg/month. It produces rectangular ingots with a maximum diagonal of 200 mm.
Lappolás

Lappolás

Wafers with maximum dimensions 200x200 mm are being lapped. Capacity – 1000 kg/month. Surface roughness – ˂ Ra 0.1
Monokristályos Szilícium Mikroelektronikához

Monokristályos Szilícium Mikroelektronikához

Monocrystalline Silicon for microelectronics Conductivity type:Р Type (Boron) Orientation:100 and 111 ±2° Carbon content:Less than 2.5х1016 at.cm3 Oxygen content:Less than 1х1018 at.cm3 Resistance:0,05 ÷ 45 ± 20% Ω/сm Shape:Grinded cylinder Diameter:76,2 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm
A kristály vágása

A kristály vágása

After having pulled the crystal out, it is placed in the sawing machine, where the initial and the end cone are being cut out. Thereafter, the cylindrical part is cut-to-length, as requested. Diamond discs for peripheral sawing are used for cutting.
A kristály felületének csiszolása

A kristály felületének csiszolása

Depending on the customers’ orders, the crystals are being ground on the outside diameter of a diamond peripheral sawing disk. We have got three centre grinders with a total monthly capacity 2000 kg. Maximum ground diameter – Ф200 mm. Accuracy 0.03 mm. Surface roughness - Ra ˂ 0.25.
Kristályos szilíciumból készült sputter célok

Kristályos szilíciumból készült sputter célok

We produce targets, both single pieces and complete sets Resistance – as per customer’s specifications Conductivity type:– P or N Shape:round or rectangular Maximum diameter:Ф155 ± 0,1 mm Maximum diagonal of rectangular targets:160 ± 0,2 mm Maximum thickness:100 mm ± 0,025 mm
Monokristályos szilícium fotovoltaikus alkalmazásokhoz

Monokristályos szilícium fotovoltaikus alkalmazásokhoz

Full square 100х100 from Ф 135 mmPseudo-square 100х100 from Ф125 mm Pseudo-square 125х125 from Ф150 mm Conductivity type:Р Type (Boron) Orientation:100 ±2° Carbon content:Less than 5х1016 at. Cm3 Oxygen content:Less than 1х1018 at.cm3 Resistance:0,5 ÷ 3 Ω/сm
Szeletelt wafer-ek mikroelektronikához

Szeletelt wafer-ek mikroelektronikához

Wafer thickness(μm) standard >350 >400 >440 >500 minimum 300 350 380 420 Through-the-thickness accuracy(μm) standard ±15 ±20 ±20 ±20 Thickness deviation TTV (μm) maximum 10 15 20 25 standard <7 <10 <10 <12 ИWafer warp (μm) maximum 30 35 40 45 standard <15 <15 <20 <25
Üveg és féldrágakövek lemezeinek fűrészelése

Üveg és féldrágakövek lemezeinek fűrészelése

The company is technologically capable of slicing of thin wafers from optical glass and semi-precious stones. Wafer thickness:0,05mm – 50mm Diagonal:140мм Diameter:150мм Slice thickness (losses):0,04mm
Monokristályos szilícium infravörös optikához és CO2 lézerekhez

Monokristályos szilícium infravörös optikához és CO2 lézerekhez

Resistance for mirrors Outside diameter:up to Ф155 mm Conductivity type:– P or N Orientation:-100, 111 Transmittance:- >52% N type:10 ÷ 30 Ω/сm Р type:15 ÷ 40 Ω/сm N and Р type:0,005 ÷ 0,2 Ω/cm Ingot Diameter tolerance:±0,03 mm Blank Thickness tolerance:±0,025 mm