Plazma Felületkezelő Rendszer | Atto - Alacsony Nyomású Plazma Rendszer, Plazma Felületkezelő Rendszer, Plazma Tisztító

A Diener electronic plazma berendezései már régóta elterjedtek a különböző iparágakban. Az Atto alacsony nyomású plazma berendezéssel a modern és jövőbiztos hideg plazmatechnológiát választja vákuumban. A plazma rendszer körülbelül 10,5 literes kamra térfogata elegendő helyet biztosít a laboratóriumi és kis szériás gyártások kiszolgálására. Az alacsony nyomású plazma kezelés egy bevált technika a kontrollált finom tisztításhoz, az adhézió javításához (aktiválás és maratás) és vékony rétegek bevonásához a szubsztrát felületeken. A plazma a vákuumkamrában alkalmazott magas frekvenciájú feszültség révén keletkezik. Ekkor a bevezetett folyamatgáz ionizálódik. Alkalmazási területek: VOC-mentes tisztítás szerves maradványoktól Aktiválás festés, ragasztás, öntés előtt, … Méretek (asztali készülék): 425-525 mm x 275-257 mm x 450-420 mm (SzéxHxM) Vákuumkamra anyaga: Boroszilikát üveg (HP) Vákuumkamra méretei: Ø 211 mm, mélység 300 mm Vákuumkamra térfogata: kb. 10,5 liter Vákuumkamra zárása: Zsanéros ajtó Gázellátás: 2 gázcsatorna tűszelep vagy MFC segítségével Generátor: 40 kHz / 0 - 200 W // 13,56 MHz / 0 - 300 W Elektrodák: Az elektrodák a vákuumkamrán kívül Irányítás: Manuális, forgókapcsoló, alap PC-irányítás (Windows CE) Feszültségellátás: 230 V / 50 - 60 Hz Vákuumpumpa: Szívóteljesítmény kb. 3 m3/h