Plazma Felületkezelő Rendszer | Pico - Alacsony Nyomású Plazma Rendszer, Plazma Felületkezelő Rendszer, Plazma Tisztító

A Diener electronic plazma berendezései már régóta elterjedtek a legkülönbözőbb iparágakban. A Pico alacsony nyomású plazma berendezéssel a modern és jövőbiztos hideg plazmatechnológiát választja vákuumban. A 5-től 8 literig terjedő kamra térfogat elegendő helyet biztosít a laboratóriumi és sorozatgyártási feladatok ellátására. Az alacsony nyomású plazma kezelés egy bevált technika a kontrollált finom tisztításra, az adhézió javítására (aktiválás és maratás) és vékony rétegek bevonására a szubsztrátum felületein. A plazma a vákuumkamrában alkalmazott nagyfrekvenciás feszültség révén keletkezik. Ekkor a bevezetett folyamatgáz ionizálódik. Alkalmazási területek: - VOC-mentes tisztítás szerves maradványok eltávolítására - Aktiválás festés, ragasztás, öntés előtt, … - PTFE, fotólakk, oxidrétegek maratása, … - Szuper-hidrofób és -hidrofíliás bevonatok Méretek (asztali készülék): 310 - 560 mm x 330 - 860 mm x 420 - 600 mm (Szélesség x Magasság x Mélység) Méretek (álló készülék): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (Szélesség x Magasság x Mélység) Vákuumkamra anyaga: Rozsdamentes acél, alumínium, kvarc üveg (UHP), boroszilikát üveg (HP) Vákuumkamra méretei: kb. Szélesség 160 mm x Magasság 160 mm x Mélység 200 - 300 mm; Ø 130 mm, Mélység 200 - 320 mm Vákuumkamra térfogat: kb. 5 - 8 liter Vákuumkamra zárás: Fedél, ajtó zsanérral Gázellátás: Tűszelep vagy tömegáram-vezérlők (MFC) Generátor: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Nyomásmérés: Pirani, kapacitásmérő Elektódák: ügyféligény szerint Irányítás: Félautomatikus, forgókapcsoló, alap PC (Win. CE), teljes PC (Win. 10 IoT) Feszültségellátás: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vákuumpumpa: Szívóteljesítmény min. 6 m³/h