Plazma Felületkezelő Rendszer | Atto - Alacsony Nyomású Plazma Rendszer, Plazma Felületkezelő Rendszer, Plazma Tisztító

A Diener electronic plazma rendszerei már régóta elterjedtek számos ipari szektorban. Az Atto alacsony nyomású plazma rendszerrel modern és jövőbiztos hideg plazma technológiára támaszkodhat vákuumban. Ennek a plazma rendszernek a körülbelül 10,5 literes kamra térfogata elegendő helyet biztosít laboratóriumi és kis sorozatgyártás számára. Az alacsony nyomású plazma kezelés egy bevált technika a kontrollált ultra-finom tisztításhoz, tapadásjavításhoz (aktiválás és maratás) és vékony filmek bevonásához a hordozó felületeken. A plazma a vákuumkamrában alkalmazott magas frekvenciájú feszültség révén keletkezik. A folyamat során az ott bevezetett folyamatgáz ionizálódik. Alkalmazási területek: - VOC-mentes tisztítás szerves maradványok eltávolítására - Aktiválás festés, ragasztás, tömítés előtt, ... Méretek (asztali): 425-525 mm x 275-257 mm x 450-420 mm (Szélesség x Magasság x Mélység) Vákuumkamra anyaga: Üveg Boroszilikát (HP) Vákuumkamra méretei: Ø 211 mm, mélység 300 mm Vákuumkamra térfogata: kb. 10,5 liter Vákuumkamra zárása: Felemelhető ajtó Gázellátás: 2 gázcsatorna tűszelepen vagy MFC-n keresztül Generátor: 40 kHz / 0 - 200 W // 13,56 MHz / 0 - 300 W Elektódák: egy pár elektóda a vákuumkamrán kívül Irányítás: Kézi, forgókapcsoló, alap PC vezérlés (Windows CE) Tápellátás: 230 V / 50 - 60 Hz Vákuumpumpa: Kapacitás: kb. 3 m3/h